以下是:遼寧省阜新市鋁板下單即生產(chǎn)的產(chǎn)品參數(shù)
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以下是:遼寧阜新鋁板下單即生產(chǎn)的圖文介紹
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鋁卷廠家生產(chǎn)的硬磁盤毛料與基片除罐身料外,鋁卷軋制廠的另一種典型產(chǎn)品是計(jì)算機(jī)硬磁盤毛料與基片(harddiskblanksandsubstrates)。磁盤車間是的,高度潔凈的,由原來的廠改造而成。鋁卷廠的磁盤毛料與基片品質(zhì)了全用戶的信賴,不但占有的國內(nèi)市場,而且市場的占有率高達(dá)60%。 鋁卷軋制廠生產(chǎn)磁盤毛料直徑有140mm,90mm,45mm,35mm等多種,用兩臺壓力為3MN壓力機(jī)落料。小毛料的厚度為1.9-2.1mm,大毛料的厚度為4mm。目前,該廠的毛料產(chǎn)量約為2億片每年。磁盤基片車間有十幾臺精密磨床,將基片磨到所需的粗糙度。 在處理基片上一層NiP膜作為底層后,再均勻地涂一層磁性膜。研究中心出了一種含有Cu或Zn的磁盤合金KS5D86。該合金有優(yōu)異的表面處理性能,可均勻形成吸附力很強(qiáng)的NiP薄膜,在上了廣泛的應(yīng)用。它有很強(qiáng)的抗沖壓力,在個人計(jì)算機(jī)與計(jì)算機(jī)磁盤中有著大量的應(yīng)用。 可作為硬磁盤基片的材料還有玻璃、欽、碳素等,但鋁合金由于其優(yōu)異的性能,從開始應(yīng)用的那天起至今仍在硬磁盤領(lǐng)域占有統(tǒng)治地位。這些性能是:無磁性;良好地可切削性;可長期保持表面光潔度,以維持低的漂浮高度(flyingheight);密度低,能適應(yīng)高速;材料成本也低。
連鑄連軋工藝國內(nèi)很少有人研究,應(yīng)用方面基本上是一個空白。熱軋工藝近年來之所以能得到迅速發(fā)展,除上述因素外,主要是由于鑄軋工藝生產(chǎn)的材料范圍較窄、產(chǎn)品性能差、產(chǎn)量低等缺陷造成的。新工藝在保留鑄軋工藝優(yōu)點(diǎn)的同時,克服了鑄軋工藝的許多缺陷,它加大了鑄軋機(jī)冷卻區(qū)域的長度,了冷卻強(qiáng)度,使固液兩相線溫差大于45℃的鋁合金得以生產(chǎn),擴(kuò)大了材料的生產(chǎn)范圍。 新工藝生產(chǎn)的鑄坯厚度大于12mm,在鋁金屬再結(jié)晶溫度范圍內(nèi),以大于65%的加工量進(jìn)行連續(xù)軋制,由此而生產(chǎn)出的產(chǎn)品晶粒已破碎,了鑄造組織,使再結(jié)晶晶粒較為均勻,產(chǎn)品的性能得到了極大的。新工藝較鑄軋工藝:鑄坯增厚1.5一2.5倍,速度1.5一3.0倍,綜合產(chǎn)能3一5倍.圖3以年產(chǎn)三十萬噸的鋁加工廠為例,由鋁液直接生產(chǎn)2m寬、l一2mm厚的熱軋板坯,比較了各種工藝生產(chǎn)1kg鋁板所消耗的電能。 從中可以著到,新工藝在鑄軋工藝的基礎(chǔ)上增加占61%的熱軋能耗,但省掉79%的冷軋能耗,與鑄軋工藝相比其綜合能耗降低了18%,下面以生產(chǎn)1.5一3mm的鋁裝飾板為例,對新、老生產(chǎn)工藝作進(jìn)一步的分析:鋁裝飾板通常采用IXXX系純鋁材料,部分也有采用3XXX系鋁合金材料的。 老生產(chǎn)工藝基本上采用7min厚的熱軋或鑄軋板,經(jīng)3一4個冷軋道次軋制到成品。新工藝可直接由鑄軋板經(jīng)2連軋將其加工到成品厚度,再經(jīng)冷軋1個道次的平整或由精整設(shè)備矯直、拋光以板材的表面質(zhì)量。上表對鋁裝飾板3種生產(chǎn)工藝的加工成本進(jìn)行了比較,從中可以看出采用新工藝生產(chǎn)鋁裝飾板材具有很大的價格優(yōu)勢,同時也表明了熱軋工藝生產(chǎn)普通鋁板在價格上沒有競爭力,它只適合生產(chǎn)高端優(yōu)質(zhì)板材。
各色系電解液組成如下:a)、系列:6-8g/L,促進(jìn)劑5-10g/Lb)、灰色系列:硼酸30-40g/L,促進(jìn)劑5-10g/L,添加劑A0.5-2.0g/Lc)、香檳色系列:磺基水楊酸60-70g/L,添加劑B5-8g/L,Na2WO40.5-1-0g/L研究出一種適合硬鋁合金陽極氧化處理的工藝。 攪拌對膜層性能有一定影響,和灰色系列采用弱攪拌,香檳色系列則采用強(qiáng)攪拌。將硬鋁合金(202置于由硼酸等組成的復(fù)合電解液中,采用恒電壓氧化,可在其表面形成一層深灰色氧化膜層,該膜層均勻,富有陶瓷光澤,具有較好的硬度和耐腐蝕性能。 工藝研究表明,前處理對氧化影響較大,物理方法前處理對成膜不利,一般采用化學(xué)處理方式;氧氣溫度要控制在在25℃以下;氧化峰值電流越大,膜層越厚;X射線能(EDS)測試表明,膜層主要組成元素為,同時含有少量P,S和C,沒有檢測到Cu元素。 X射線衍射(XRD)相分析表明,膜層主要呈非晶態(tài);表面和截面掃描電鏡分析表明,膜層表面呈多孔狀,孔徑約為20nm;孔壁伸向基底,但不垂直于基底;孔壁不連續(xù),像是由細(xì)小顆粒堆積而成。電化學(xué)研究和SEM分析表明,電解液組分對膜層性能影響較大,只有在三組分共同作用下,才能形成理想膜層。
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