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電化學(xué)沉積陶瓷膜在難氧化鋁合金的研究方面取得了一些進展,但仍存在很多限制因素,如電源設(shè)備投資大,氧化電流大,氧化時間較難控制等。并詳細(xì)研究了電解工藝參數(shù)對膜層性能的影響,同時通過SEM,XRD,EDS等表面分析分析和研究了膜層的形貌、成份和結(jié)構(gòu)。 研究工作在電化學(xué)沉積陶瓷膜基礎(chǔ)上,保留了膜層優(yōu)異的性能,克服了其在電源設(shè)備、自動控制及能耗成本方面的不足。施壓方式從較高直流或非連續(xù)陽極電壓變更為濾波直流電壓,電壓也從高達幾百伏降至了50V左右,大大降低了能耗,自動控制及生產(chǎn)性進一步。 本研究選用了、硼酸及磺基水楊酸三種主要氧化電解質(zhì),并配以成膜促進劑和成膜添加劑,組成復(fù)合電解液。將鋁及其合金材料置于此種復(fù)合電解液中,采用濾波直流電壓方式,對其進行陽極化處理,可在鋁及其合金表面形成一層、灰色或香檳色系的陽極氧化膜。 氧化膜具有優(yōu)異的耐腐蝕性能和裝飾性能,且具備很好的陶瓷光澤。詳細(xì)研究了該工藝的陽極氧化特征、電解液組分以及工藝參數(shù)對膜層性能的影響。并采用了電子掃描顯微鏡(SEM)分析了膜層的微觀形貌。本嚴(yán)格遵循相關(guān)法律法規(guī)規(guī)定,絡(luò),如有請告知。
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列出了質(zhì)量分?jǐn)?shù)與氧化電壓之間的關(guān)系,及其得到的不同性能的氧化膜。由于陽極氧化工藝具有較大優(yōu)勢,所以其不管是理論研究還是工藝研究,都非常的活躍。羅一帆等研究了氧化溶液中的雜質(zhì)及濃度、溫度和電流密度對鋁合金陽極氧化膜層顯微硬度及厚度的影響,并提出了氧化工藝的方法。 比較了常溫和低溫下鋁陽極氧化的效果,發(fā)現(xiàn)較高溫度下氧化膜孔呈呈合花狀,孔口大而孔底窄,孔徑達到25m,而3℃絡(luò)結(jié)構(gòu),有如樺樹葉的堆積,孔隙率在200nm左右。一般陽極氧化都是在25℃以下進行,為了生產(chǎn)效率,研究人員對氧化添加劑進行了研究。 在原槽液中添加適量、乳酸、丙三醇和鎳,發(fā)現(xiàn)能在保證膜層質(zhì)量的前提下,有效擴大工藝溫度范圍,生產(chǎn)效率。KumarCS等在溶液中添加了甘油、乳酸、鋁酸鈉等組成復(fù)合氧化液,采用1.3-1.4A/dm2的電流密度,在2024鋁合金上了耐蝕性優(yōu)異的白色氧化膜。 在含有欽按酸溶液中,TakenakaT等采用恒流氧化制得了黑色陽極氧化膜.鋁陽極氧化膜的形成是一個涉及物理、化學(xué)和電化學(xué)等諸多方面的復(fù)雜過程,同時還受到電解液、氧化電壓、反應(yīng)溫度等實驗參數(shù)的影響,陽極氧化機理研究并不容易。
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