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在反復(fù)的過(guò)程中,晶粒細(xì)化的一般過(guò)程為:首先,晶粒被粉碎成一系列具有小角度界面的亞晶,亞晶沿著一定方向拉長(zhǎng)形成帶狀組織,亞晶帶寬度一般為幾微米或亞微米;然后,亞晶被繼續(xù)破壞,開(kāi)始出現(xiàn)部分具有大角度界面的等軸晶組織;后,亞晶帶消失,顯微組織主要為具有大角度晶界的等軸晶組織。 鋁卷廠家談等通道轉(zhuǎn)角對(duì)對(duì)顯微組織的作用等通道轉(zhuǎn)角對(duì)于純金屬、合金、金屬間化合物等具有顯著的晶粒細(xì)化效果,可以0.2一0.3um尺寸的超細(xì)等軸晶組織。研究各工藝路線對(duì)晶粒細(xì)化的作用應(yīng)綜合考慮剪切面、晶體結(jié)構(gòu)和變形織構(gòu)間相互作用,因?yàn)橄噜彽来伍g剪切面的夾角今隨著工藝路線的不同而變化。 以純鋁為例,路徑Bc比A、C路徑更容易等到等軸晶粒,而路徑A比Bc和A路徑更容易的到大角度晶界,而細(xì)化晶粒的效果是路徑Bc哪。對(duì)于密排六方結(jié)構(gòu)的鎂和鎂合金,由于其主滑移發(fā)生在(000晶面,而在1120晶向是鎂的易滑移方向,所以對(duì)于鎂合金,為快的晶粒細(xì)化效果,應(yīng)采用路徑Bc。 例如,透射電鏡可觀察到等通道轉(zhuǎn)角Al一Cu一0.SZr等軸晶組織的擴(kuò)展厚度消失形貌,而該形貌在退火后消失;這種擴(kuò)展與晶界處存在大量的彈性應(yīng)變和晶體點(diǎn)陣的扭轉(zhuǎn)有關(guān),且測(cè)定了ECAP純Cu的晶界附近的彈性應(yīng)變,結(jié)果表明這。
電化學(xué)沉積陶瓷膜在難氧化鋁合金的研究方面取得了一些進(jìn)展,但仍存在很多限制因素,如電源設(shè)備投資大,氧化電流大,氧化時(shí)間較難控制等。并詳細(xì)研究了電解工藝參數(shù)對(duì)膜層性能的影響,同時(shí)通過(guò)SEM,XRD,EDS等表面分析分析和研究了膜層的形貌、成份和結(jié)構(gòu)。 研究工作在電化學(xué)沉積陶瓷膜基礎(chǔ)上,保留了膜層優(yōu)異的性能,克服了其在電源設(shè)備、自動(dòng)控制及能耗成本方面的不足。施壓方式從較高直流或非連續(xù)陽(yáng)極電壓變更為濾波直流電壓,電壓也從高達(dá)幾百伏降至了50V左右,大大降低了能耗,自動(dòng)控制及生產(chǎn)性進(jìn)一步。 本研究選用了、硼酸及磺基水楊酸三種主要氧化電解質(zhì),并配以成膜促進(jìn)劑和成膜添加劑,組成復(fù)合電解液。將鋁及其合金材料置于此種復(fù)合電解液中,采用濾波直流電壓方式,對(duì)其進(jìn)行陽(yáng)極化處理,可在鋁及其合金表面形成一層、灰色或香檳色系的陽(yáng)極氧化膜。 氧化膜具有優(yōu)異的耐腐蝕性能和裝飾性能,且具備很好的陶瓷光澤。詳細(xì)研究了該工藝的陽(yáng)極氧化特征、電解液組分以及工藝參數(shù)對(duì)膜層性能的影響。并采用了電子掃描顯微鏡(SEM)分析了膜層的微觀形貌。本嚴(yán)格遵循相關(guān)法律法規(guī)規(guī)定,絡(luò),如有請(qǐng)告知。
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