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當再轉(zhuǎn)入下一陽極過程時,第二相CuA12就較少溶解或不被濟解,而氧化膜則繼續(xù)增厚。這樣就可以析氧量和鋁合金中銅組分的溶解量,陽極效率和允許使用的電流密度上限,使膜層快速成長且不會過熱。本嚴格遵循相關法律法規(guī)規(guī)定,絡,如有請告知。 采用控制電位法對合金鋁卷進行陽極氧化,電解液組成為表2.2中所列系列。在30s內(nèi)將氧化電壓從ov線性變化到設置電壓并保持試驗結(jié)束。圖2.2,2.3分別示出了氧化過程中典型的槽壓、電流密度隨時間的變化曲線。根據(jù)氧化電流密度隨時問的變化曲線可大致將成膜過程分為三個階段。 階段:電流隨電壓迅速增加階段,此時鋁表而迅速生成一層淺灰色膜層,該膜致密而均勻,具有很高的電阻。該階段可認為是合金鋁卷初始成膜階段,所經(jīng)歷時間約為30s;第段陽極氧化電流密度由峰優(yōu)迅速下降.膜的顏色由淺變深,厚度迅速增加階段。 此階段可認為是氧化膜的快速形成期,所經(jīng)歷時間約為5min;第蘭階段,電流密度隨時間下降階段,此階段氧化膜增加速度,生長與溶解接衡,成膜過程基本結(jié)束,電流密度終達到1一2A/d㎡。本嚴格遵循相關法律法規(guī)規(guī)定,絡,如有請告知。
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電化學沉積陶瓷膜在難氧化鋁合金的研究方面取得了一些進展,但仍存在很多限制因素,如電源設備投資大,氧化電流大,氧化時間較難控制等。并詳細研究了電解工藝參數(shù)對膜層性能的影響,同時通過SEM,XRD,EDS等表面分析分析和研究了膜層的形貌、成份和結(jié)構。 研究工作在電化學沉積陶瓷膜基礎上,保留了膜層優(yōu)異的性能,克服了其在電源設備、自動控制及能耗成本方面的不足。施壓方式從較高直流或非連續(xù)陽極電壓變更為濾波直流電壓,電壓也從高達幾百伏降至了50V左右,大大降低了能耗,自動控制及生產(chǎn)性進一步。 本研究選用了、硼酸及磺基水楊酸三種主要氧化電解質(zhì),并配以成膜促進劑和成膜添加劑,組成復合電解液。將鋁及其合金材料置于此種復合電解液中,采用濾波直流電壓方式,對其進行陽極化處理,可在鋁及其合金表面形成一層、灰色或香檳色系的陽極氧化膜。 氧化膜具有優(yōu)異的耐腐蝕性能和裝飾性能,且具備很好的陶瓷光澤。詳細研究了該工藝的陽極氧化特征、電解液組分以及工藝參數(shù)對膜層性能的影響。并采用了電子掃描顯微鏡(SEM)分析了膜層的微觀形貌。本嚴格遵循相關法律法規(guī)規(guī)定,絡,如有請告知。
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