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當再轉(zhuǎn)入下一陽極過程時,第二相CuA12就較少溶解或不被濟解,而氧化膜則繼續(xù)增厚。這樣就可以析氧量和鋁合金中銅組分的溶解量,陽極效率和允許使用的電流密度上限,使膜層快速成長且不會過熱。本嚴格遵循相關法律法規(guī)規(guī)定,絡,如有請告知。 采用控制電位法對合金鋁卷進行陽極氧化,電解液組成為表2.2中所列系列。在30s內(nèi)將氧化電壓從ov線性變化到設置電壓并保持試驗結(jié)束。圖2.2,2.3分別示出了氧化過程中典型的槽壓、電流密度隨時間的變化曲線。根據(jù)氧化電流密度隨時問的變化曲線可大致將成膜過程分為三個階段。 階段:電流隨電壓迅速增加階段,此時鋁表而迅速生成一層淺灰色膜層,該膜致密而均勻,具有很高的電阻。該階段可認為是合金鋁卷初始成膜階段,所經(jīng)歷時間約為30s;第段陽極氧化電流密度由峰優(yōu)迅速下降.膜的顏色由淺變深,厚度迅速增加階段。 此階段可認為是氧化膜的快速形成期,所經(jīng)歷時間約為5min;第蘭階段,電流密度隨時間下降階段,此階段氧化膜增加速度,生長與溶解接衡,成膜過程基本結(jié)束,電流密度終達到1一2A/d㎡。本嚴格遵循相關法律法規(guī)規(guī)定,絡,如有請告知。
鋁卷廠家生產(chǎn)的硬磁盤毛料與基片除罐身料外,鋁卷軋制廠的另一種典型產(chǎn)品是計算機硬磁盤毛料與基片(harddiskblanksandsubstrates)。磁盤車間是的,高度潔凈的,由原來的廠改造而成。鋁卷廠的磁盤毛料與基片品質(zhì)了全用戶的信賴,不但占有的國內(nèi)市場,而且市場的占有率高達60%。 鋁卷軋制廠生產(chǎn)磁盤毛料直徑有140mm,90mm,45mm,35mm等多種,用兩臺壓力為3MN壓力機落料。小毛料的厚度為1.9-2.1mm,大毛料的厚度為4mm。目前,該廠的毛料產(chǎn)量約為2億片每年。磁盤基片車間有十幾臺精密磨床,將基片磨到所需的粗糙度。 在處理基片上一層NiP膜作為底層后,再均勻地涂一層磁性膜。研究中心出了一種含有Cu或Zn的磁盤合金KS5D86。該合金有優(yōu)異的表面處理性能,可均勻形成吸附力很強的NiP薄膜,在上了廣泛的應用。它有很強的抗沖壓力,在個人計算機與計算機磁盤中有著大量的應用。 可作為硬磁盤基片的材料還有玻璃、欽、碳素等,但鋁合金由于其優(yōu)異的性能,從開始應用的那天起至今仍在硬磁盤領域占有統(tǒng)治地位。這些性能是:無磁性;良好地可切削性;可長期保持表面光潔度,以維持低的漂浮高度(flyingheight);密度低,能適應高速;材料成本也低。
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)15~25g/L乳化劑l~29/L溫度90℃時間2~3min酸洗中和(HNO30%化學拋光鋁和鋁合金常用的化學拋光液為、和,很容易造成過腐蝕.對鑄造Al一si合金來說,由于硅的存在形成硅灰,所以選用以下工藝:60~65ml/I。 另一方面又及時溶解氧化鋁膜而生成鋁,對化學拋光質(zhì)量起主要作用。:由于51的存在,在拋光過程中,基體表面形成殘留的黑色膜,加入可達到活化基體的目的,從而起到增加光亮度的作用。甘油:由于一般含強酸拋光液很容易過腐蝕,甘油可起到緩蝕劑作用,使零件不易過腐蝕,保證零件平整光滑。 同時,它還可以增加粘度,加快拋光成膜速度,零件的光亮度。本嚴格遵循相關法律法規(guī)規(guī)定,絡,如有請告知。我們立即。并且在此:本所有頁面上的化用詞與功能性用詞全部失效,不做賠付理由;僅是為了給客戶提供更多相關介紹,不存在不良動機,希望各位消費者理解。 鋁卷廠家談電化學氧化工藝Al一Si合金鑄件陽極氧化工藝Al一Si合金由于Si的存在采用氧化易產(chǎn)生硅灰,我們選用混合酸陽極氧化工藝,其具體工藝如下:10~15g/L乳酸30一40g/L硼酸35~40g/L粗蕙3.5~5.0g/Lt15~30℃D10~20A/dmZ工藝方法①、配制溶液時必須用蒸留水或去離子水。
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