以下是:可伐合金毛細(xì)管制作廠家的產(chǎn)品參數(shù) 
	
 
產(chǎn)品參數(shù)
產(chǎn)品價(jià)格
電議
發(fā)貨期限
電議
供貨總量
電議
運(yùn)費(fèi)說(shuō)明
電議
產(chǎn)地
中國(guó)
品牌
無(wú)錫拓亞
材質(zhì)
4J28、4J29、4J34、4J36、4J42、4J43、4J45、4J50、4J54、4J58、4J6
用途
廣泛用于制作電真空元件，電力電子等行業(yè)的器件使用。
范圍
供應(yīng)范圍覆蓋四川省 阿壩市 汶川縣、理縣、茂縣、松潘縣、九寨溝縣、金川縣、小金縣、黑水縣、馬爾康市、壤塘縣、若爾蓋縣、紅原縣等區(qū)域。
	
  
 
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以下是:可伐合金毛細(xì)管制作廠家的圖文介紹 

可伐(Kovar)合金。該合金在20～450℃具有與硅硼硬玻璃相近的線膨脹系數(shù)，居里點(diǎn)較高，并有良好的低溫組織穩(wěn)定性。合金的氧化膜致密，能很好地被玻璃浸潤(rùn)。且不與汞作用，適合在含汞放電的儀表中使用。是電真空器件主要密封結(jié)構(gòu)材料。

材料的技術(shù)標(biāo)準(zhǔn) YB/T 5231-1993

熱處理制度 標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的膨脹系數(shù)及低溫組織穩(wěn)定性的性能檢驗(yàn)試樣，在氫氣氣氛中加熱至900℃±20℃,保溫1h，再加熱至1100℃±20℃，保溫15min，以不大于5℃/min速度冷至200℃以下出爐。

熔煉與鑄造工藝 用非真空感應(yīng)爐、真空感應(yīng)爐或電弧爐熔煉。

應(yīng)用概況與特殊要求 該合金是國(guó)際通用的典型的Fe-Ni-Co硬玻璃封接合金。經(jīng)航空工廠長(zhǎng)期使用，性能穩(wěn)定。主要用于電真空元器件如發(fā)射管、振蕩管、引燃管、磁控管、晶體管、密封插頭、繼電器、集成電路的引出線、底盤、外殼、支架等的玻璃封接。在應(yīng)用中應(yīng)使選用的玻璃與合金的膨脹系數(shù)相匹配。根據(jù)使用溫度嚴(yán)格檢驗(yàn)其低溫組織穩(wěn)定性。在加工過(guò)程中應(yīng)進(jìn)行適當(dāng)?shù)臒崽幚?，以保證材料具有良好的深沖引伸性能。當(dāng)使用鍛材時(shí)應(yīng)嚴(yán)格檢驗(yàn)其氣密性。


可伐合金是結(jié)合我國(guó)的陶瓷特點(diǎn)研制的陶瓷封接合金。合金在-60℃～600℃溫度范圍內(nèi)具有與95%Al2O3陶瓷相近的線膨脹系數(shù)。主要用于和陶瓷進(jìn)行匹配封接，是電真空工業(yè)中重要的封接結(jié)構(gòu)材料。

物理及化學(xué)性能   

熱性能：熔化溫度范圍 該合金溶化溫度約為1450℃]。熱導(dǎo)率 4J33合金熱導(dǎo)率λ=17.6W/(m?℃)。 密度 ρ=8.27g/cm3

電性能：電阻率 ρ=0.46μΩ·m

磁性能；居里點(diǎn) Tc=440℃

化學(xué)性能 該合金在大氣、淡水和海水中具有較好的耐腐蝕性。

彈性性能 彈性模量E=139GPa。

表面處理工藝 表面處理可用噴砂、拋光、酸洗。該合金具有良好的電鍍性能，表面能鍍金、銀、鎳、鉻等金屬。

切削加工與磨削性能 該合金切削加工特性和奧氏體不銹鋼相似。加工時(shí)采用高速鋼或硬質(zhì)合金刀具，低速切削加工。切削時(shí)可使用冷卻劑。該合金磨削性能良好。



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可伐合金材料描述

Kovar®是一種真空熔煉的鐵鎳鈷低膨脹合金，化學(xué)成分含量被控制在非常窄的范圍內(nèi)，以保證的均衡熱膨脹性能。 同時(shí)，制造過(guò)程中嚴(yán)格地質(zhì)量控制也確保了均衡的物理及機(jī)械性能，更加適合深沖壓，沖壓及各類切削加工。

材料用途

Kovar®用于硬玻璃及陶瓷的真空密封。廣泛用于電子管，微波管，晶體管和二極管。在集成電路上，它被用于扁平集成電路和雙列直插式封裝。

密封準(zhǔn)備

所有Kovar®制作的零件應(yīng)該在濕氫氣氛中進(jìn)行脫氣和退火處理。氫在室溫下注入水中，通過(guò)水泡達(dá)到潮濕，必須小心防止表面碳化。熱處理爐要有提供同樣的氣氛的冷卻室。熱處理在1540/2010°F (838/1099°C)溫度范圍內(nèi)進(jìn)行，熱處理時(shí)間為從溫度開(kāi)始，20分鐘升到溫度，隨后零件移到冷卻區(qū)域，冷卻到570°F (299°C)后取出。

金屬與硬玻璃的密封時(shí)，金屬有一層氧化膜，的氧化膜是薄的并緊緊吸附于金屬表層。這樣的氧化膜可以通過(guò)將零件在大氣環(huán)境下加熱到1200/1290°F (650/700°C) ，并持續(xù)一段時(shí)間到深灰色表層變成淡褐色氧化膜。



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